Brewster Windows ouni Reflexioun Verloschter vun P-Polariséierung
Brewster Fënstere ginn typesch als Polarisator bannent Laser Huelraim benotzt. Wann se am Brewster Wénkel positionéiert sinn (55 ° 32′ bei 633 nm), passéiert de P-polariséierten Deel vum Liicht duerch d'Fënster ouni Verloschter, während e Fraktioun vum S-polariséierten Deel vun der Brewster Fënster reflektéiert gëtt. Wann se an engem Laser Kavitéit benotzt gëtt, wierkt d'Brewster Fënster wesentlech als Polarisator.
Brewster Wénkel gëtt vun
tan (θB) = nt/ni
θBass Brewster Wénkel
niass den Brechungsindex vum Incident Medium, deen 1,0003 fir Loft ass
ntass den Brechungsindex vum Iwwerdroungsmedium, deen 1,45701 fir verschmolzte Silika bei 633 nm ass
Paralight Optics offréiert Brewster Fënstere sinn fabrizéiert aus N-BK7 (Grad A) oder UV verschmolzelt Silika, déi praktesch keng laserinduzéiert Fluoreszenz weist (wéi gemooss bei 193 nm), wat et eng ideal Wiel mécht fir Uwendungen vun der UV bis an der noer IR . Kuckt w.e.g. déi folgend Grafik déi Reflexioun fir béid S- a P-Polariséierung duerch UV verschmolzelt Silika bei 633 nm fir Är Referenzen weist.
Fonctiounen:
Material:
N-BK7 oder UV Fused Silica Substrat
Laser Schued Quantifikatioun Test:
Héich Schued Schwell (Onbeschichtet)
Optesch Leeschtungen:
Null Reflexiounsverloscht fir P-Polariséierung, 20% Reflexioun fir S-Polariséierung
Uwendungen:
Ideal fir Laser Huelraim
Gemeinsam Spezifikatioune:
Referenz Zeechnen fir
Brewster Fënster
D'Referenz Zeechnen lénks weist d'Reflexioun vun S-polariséiert Liicht an Transmissioun vun P-polariséiert Liicht duerch eng Brewster Fënster. E puer S-polariséiert Liicht gëtt duerch d'Fënster iwwerdroen.
Parameteren
Beräicher & Toleranzen
-
Substrat Material
N-BK7 (Grad A), UV verschmolzelt Silika
-
Typ
Flaach oder gedréchent Laserfenster (ronn, quadratesch, asw.)
-
Gréisst
Benotzerdefinéiert gemaach
-
Gréisst Toleranz
typesch: +0,00/-0,20 mm | Präzisioun: +0,00/-0,10 mm
-
Dicke
Benotzerdefinéiert gemaach
-
Dicke Toleranz
Typesch: +/- 0,20 mm | Präzisioun: +/- 0,10 mm
-
Kloer Apertur
> 90%
-
Parallelismus
Präzisioun: ≤10 arcsec | Héich Präzisioun: ≤5 Arcsec
-
Surface Quality (Scratch - Dig)
Präzisioun: 60 - 40 | Héich Präzisioun: 20-10
-
Surface Flatness @ 633 nm
Präzisioun: ≤ λ/10 | Héich Präzisioun: ≤ λ/20
-
Iwwerdroe Wavefront Feeler
≤ λ/10 @ 632,8 nm
-
Chamfer
Geschützt:< 0,5 mm x 45°
-
Beschichtung
Onbeschichtet
-
Wellelängt Beräicher
185 - 2100 nm
-
Laser Schued Schwell
>20 J/cm2(20 ns, 20 Hz, @ 1064 nm)
Grafiken
♦ D'Grafik no riets weist d'berechent Reflexioun vun onbeschichteten UV verschmolzene Silika fir polariséiert Liicht bei verschiddene Inzidenzwinkelen (D'Reflektioun fir P-polariséiert Liicht geet op Null am Brewster Wénkel).
♦ Den Brechungsindex vun UV verschmolzene Silica variéiert mat der Wellelängt, déi an der folgender lénkser Grafik ugewise gëtt (de berechent Brechungsindex vun UV verschmolzene Silica als Funktioun vun der Wellelängt vun 200 nm bis 2,2 μm).
♦ Déi folgend riets Grafik weist de berechente Wäert vum θB (Brewster's Wénkel) als Funktioun vun der Wellelängt vun 200 nm op 2,2 μm wann d'Liicht vu Loft op UV verschmolzelt Silika passéiert.
Den Brechungsindex ass Wellelängt ofhängeg
