Zylindresch Lënsen
Positiv zylindresch Lënsen hunn eng flaach Uewerfläch an eng konvex Uewerfläch, si sinn ideal fir Uwendungen déi Vergréisserung an enger Dimensioun erfuerderen. Wärend sphäresch Lënse symmetresch an zwou Dimensiounen op engem Incidentstrahl handelen, handelen zylindresch Lënsen op déiselwecht Manéier awer nëmmen an enger Dimensioun. Eng typesch Applikatioun wier e Paar zylindresch Lënsen ze benotzen fir anamorphesch Form vun engem Strahl ze bidden. Eng aner Applikatioun ass eng eenzeg positiv zylindresch Lens ze benotzen fir en divergéierende Strahl op eng Detektorarray ze fokusséieren; E Paar positiv zylindresch Lënse kënne benotzt ginn fir d'Ausgab vun enger Laserdiode ze kolliméieren an zirkuléieren. Fir d'Aféierung vu kugelfërmeg Aberratiounen ze minimiséieren, soll kolliméiert Liicht op der kromme Uewerfläch virkommen wann se op eng Linn fokusséiert ginn, a Liicht vun enger Linnquell soll op der Plano Uewerfläch beim Kolliméieren.
Negativ zylindresch Lënsen hunn eng flaach Uewerfläch an eng konkav Uewerfläch, si hunn eng negativ Brennwäit an handelen als plano-konkave Kugellënsen, ausser nëmmen op enger Achs. Dës Lënse ginn an Uwendungen benotzt déi eng Dimensiounsform vun enger Liichtquell erfuerderen. Eng typesch Applikatioun wier eng eenzeg negativ zylindresch Lens ze benotzen fir e kolliméierte Laser an e Linngenerator ze transforméieren. Pairen vun zylindresche Lënse kënne benotzt ginn fir Biller anamorphesch ze formen. Fir d'Aféierung vun der Aberratioun ze minimiséieren, soll d'gebogen Uewerfläch vun der Lens d'Quell viséieren wann se benotzt gi fir e Strahl ze divergéieren.
Paralight Optics bitt zylindresch Lënse fabrizéiert mat N-BK7 (CDGM H-K9L), UV-verschmolzene Silica oder CaF2, déi all verfügbar sinn onbeschichtet oder mat enger Antireflektiounsbeschichtung. Mir bidden och ronn Versioune vun eise zylindresche Lënsen, Staanglënsen, an zylindresch achromatesch Doublets fir Uwendungen déi minimal Aberratioun erfuerderen.
Fonctiounen:
Substrat:
N-BK7 (CDGM H-K9L), UV-Fused Silica oder CaF2
Brennwäit:
Benotzerdefinéiert gemaach wéi pro Substratmaterial
Funktioun:
Benotzt a Pairen fir anamorphesch Form vun engem Beam oder Biller ze bidden
Uwendungen:
Ideal fir Uwendungen déi Vergréisserung an enger Dimensioun erfuerderen
Gemeinsam Spezifikatioune:
Referenz Zeechnen fir
Positiv zylindresch Lens
f: Brennwäit
fb: Réck Brennwäit
R: Curvature Radius
tc: Zentrum Dicke
te: Randdicke
H": Réck Haaptplane
L: Längt
H: Héicht
Parameteren
Beräicher & Toleranzen
-
Substrat Material
N-BK7 (CDGM H-K9L) oder UV-verschmolzte Silika
-
Typ
Positiv oder negativ zylindresch Lens
-
Längt Toleranz
± 0,10 mm
-
Héich Toleranz
± 0,14 mm
-
Zentrum Dicke Toleranz
± 0,50 mm
-
Surface Flatness (Plano Säit)
Héicht & Längt: λ/2
-
Zylindresch Surface Power (kromme Säit)
3 λ/2
-
Onregelméissegkeet (Peak zu Dall) Plano, Kromme
Héicht: λ/4, λ | Längt: λ/4, λ/cm
-
Surface Quality (Scratch - Dig)
60-40
-
Brennwäit Toleranz
± 2 %
-
Zentratioun
Fir f ≤ 50 mm:< 5 arcmin | fir f >50 mm: ≤ 3 arcmin
-
Kloer Apertur
≥ 90% vun Fläch Dimensiounen
-
Beschichtung Range
Onbeschichtet oder spezifizéieren Är Beschichtung
-
Design Wellelängt
587,6 nm oder 546 nm
Graf
♦ Iwwerdroungskurve vun 10mm déck, onbeschichteten NBK-7 & Verglach vu Reflexiounskurven vun AR-beschichteten NBK-7 a verschiddene Spektralberäicher a verschiddene Spektralberäicher fir eng optimal Leeschtung bei Inzidenzwinkelen (AOI) tëscht 0° an 30° (0,5 NA) ). Fir Optik geduecht fir a grousse Winkelen benotzt ze ginn, betruecht w.e.g. eng personaliséiert Beschichtung ze benotzen, déi bei engem 45 ° Inzidenzwénkel optiméiert ass, wat effektiv vu 25 ° bis 52 ° ass.
♦ Iwwerdroungskurve vun 10mm décke, onbeschichtete UVFS & Verglach vu Reflexiounskurven vun AR-beschichtete UVFS a verschiddene Spektralberäicher fir eng optimal Leeschtung bei normalen Incidentwinkelen.
♦ Fir méi aner Detailer wéi aner technesch Informatioun iwwer acylindresch Lënsen, Powell Lënsen, w.e.g. kontaktéiert eis.
Zylindresch Lënsen
Onbeschichtete UVFS Transmissioun
