เทคโนโลยีการเคลือบด้วยแสงเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพของส่วนประกอบทางแสง

องค์ประกอบและหลักการทำงานของการเคลือบ AF ขึ้นอยู่กับแนวคิดเรื่องพลังงานพื้นผิว ซึ่งส่งผลโดยตรงต่อการยึดเกาะ ความเปียก และการซึมผ่านของของเหลวบนพื้นผิว วัสดุพลังงานพื้นผิวต่ำ เช่น ออร์กาโนซิลิคอนและสารประกอบฟลูออรีนอินทรีย์ ได้รับการยอมรับอย่างกว้างขวางถึงความสามารถในการต้านทานรอยนิ้วมือและสิ่งสกปรก โดยสารประกอบฟลูออรีนอินทรีย์มีประสิทธิภาพเป็นพิเศษเนื่องจากมีพลังงานพื้นผิวต่ำมาก สิ่งนี้นำไปสู่การใช้การเคลือบ AF อย่างกว้างขวางในอุตสาหกรรม โดยมุ่งเน้นไปที่ฟลูออไรด์อินทรีย์ที่จำกัดตัวเองสำหรับเลนส์กล้องโทรศัพท์มือถือ

มาตรฐานการทดสอบสำหรับการเคลือบ AF เกี่ยวข้องกับการประเมินมุมสัมผัส แรงเสียดทานแบบไดนามิก และความต้านทานแรงเสียดทาน อย่างไรก็ตาม มาตรฐานการดำเนินการสำหรับการทดสอบเหล่านี้แตกต่างกันไปตามผู้ผลิตแต่ละราย โดยต้องพิจารณาปัจจัยต่างๆ เช่น แรงเสียดทานของพื้นผิว และประสบการณ์ทางประสาทสัมผัส

ขั้นตอนการเตรียมการสำหรับการเคลือบ AF เกี่ยวข้องกับการใช้วัสดุฟลูออรีนที่มีซิลิคอนเป็นหลัก ซึ่งทำปฏิกิริยากับกลุ่มฟังก์ชันพื้นผิวที่สอดคล้องกันเพื่อสร้างพันธะเคมีและสร้างฟิล์ม การใช้การเคลือบ AF บนวัสดุต่างๆ เช่น แก้ว อลูมิเนียมอโนไดซ์ และพลาสติก จำเป็นต้องพิจารณาอย่างรอบคอบถึงข้อกำหนดเฉพาะและมาตรฐานด้านประสิทธิภาพของลูกค้าปลายทาง

โดยสรุป การรวมการเคลือบ AF เข้ากับของเหลวชุบแข็งพิเศษ เช่น การเคลือบ HC สามารถเพิ่มความทนทานและประสิทธิภาพของส่วนประกอบทางแสงได้อย่างมาก การพัฒนาและการประยุกต์ใช้การเคลือบ AF อย่างต่อเนื่องถือเป็นสิ่งสำคัญในการตอบสนองความต้องการที่เปลี่ยนแปลงไปของอุตสาหกรรม และรับประกันประสิทธิภาพสูงสุดของส่วนประกอบออปติกในการใช้งานต่างๆ

บทความนี้ให้ข้อมูลเชิงลึกเกี่ยวกับบทบาทสำคัญของการเคลือบ AF ในการเพิ่มประสิทธิภาพและความทนทานของส่วนประกอบทางแสงโดยมุ่งเน้นไปที่คำศัพท์ทางอุตสาหกรรมที่สำคัญ เช่น พลังงานพื้นผิว มุมสัมผัส และฟลูออไรด์อินทรีย์ที่จำกัดตัวเอง

ติดต่อ:

Email:info@pliroptics.com ;

โทรศัพท์/WhatsApp/WeChat:86 19013265659

เว็บ：www.pliroptics.com

เพิ่ม:อาคาร 1 เลขที่ 1558 ถนนข่าวกรอง ชิงไป่เจียง เฉิงตู เสฉวน จีน