Công nghệ phủ quang học giúp nâng cao hiệu suất của các thành phần quang học

Công nghệ phủ quang học giúp nâng cao hiệu suất củaLinh kiện quang học

Lớp phủ quang học đóng một vai trò quan trọng trong việc bảo vệ và nâng cao hiệu suất củathành phần quang học. Trong lĩnh vực ống kính máy ảnh của điện thoại di động, việc áp dụng lớp phủ Chống Dấu vân tay (AF) đã trở thành thông lệ tiêu chuẩn. Lớp phủ AF mang lại nhiều lợi ích, bao gồm tăng cường độ cứng, khả năng chống nước, độ ẩm và ma sát cũng như các đặc tính chống bẩn, khiến chúng trở thành thành phần thiết yếu để duy trì chất lượng chụp ảnh của máy ảnh.

Thành phần và nguyên lý hoạt động của lớp phủ AF dựa trên khái niệm năng lượng bề mặt, năng lượng này ảnh hưởng trực tiếp đến độ bám dính, làm ướt và tính thấm của chất lỏng trên bề mặt. Các vật liệu có năng lượng bề mặt thấp như organosilicon và các hợp chất flo hữu cơ đã được công nhận rộng rãi về khả năng chống lại dấu vân tay và bụi bẩn, trong đó các hợp chất flo hữu cơ đặc biệt hiệu quả do năng lượng bề mặt cực thấp. Điều này đã dẫn đến việc áp dụng rộng rãi lớp phủ AF trong ngành, tập trung vào florua hữu cơ tự giới hạn cho ống kính máy ảnh của điện thoại di động.

Các tiêu chuẩn thử nghiệm đối với lớp phủ AF liên quan đến việc đánh giá góc tiếp xúc, ma sát động và khả năng chống ma sát. Tuy nhiên, tiêu chuẩn thực hiện cho các thử nghiệm này khác nhau giữa các nhà sản xuất khác nhau, có cân nhắc các yếu tố như ma sát bề mặt và trải nghiệm cảm giác.

Quá trình chuẩn bị cho lớp phủ AF chủ yếu liên quan đến việc sử dụng vật liệu flo gốc silicon, vật liệu này phản ứng với các nhóm chức năng bề mặt tương ứng để tạo thành liên kết hóa học và tạo màng. Việc áp dụng lớp phủ AF trên các vật liệu khác nhau, chẳng hạn như thủy tinh, nhôm anodized và nhựa, đòi hỏi phải xem xét cẩn thận các yêu cầu cụ thể và tiêu chuẩn hiệu suất của khách hàng cuối.

Tóm lại, việc tích hợp lớp phủ AF với chất lỏng làm cứng chuyên dụng, chẳng hạn như lớp phủ HC, có thể nâng cao đáng kể độ bền và hiệu suất của các bộ phận quang học. Sự phát triển và ứng dụng liên tục của lớp phủ AF là cần thiết để đáp ứng nhu cầu ngày càng tăng của ngành và đảm bảo hiệu suất tối ưu của các thành phần quang học trong các ứng dụng khác nhau.

Bài viết này cung cấp cái nhìn sâu sắc về vai trò thiết yếu của lớp phủ AF trong việc nâng cao hiệu suất và độ bền củathành phần quang học, tập trung vào các thuật ngữ chính của ngành như năng lượng bề mặt, góc tiếp xúc và florua hữu cơ tự giới hạn.

Liên hệ:

Email:info@pliroptics.com ;

Điện thoại/Whatsapp/Wechat: 86 19013265659

mạng:www.pliroptics.com

Địa chỉ:Tòa nhà 1, số 1558, đường tình báo, thanh bạch giang, thành đô, tứ xuyên, Trung Quốc


Thời gian đăng: 27-07-2024