硅(Si)

光学-基片-硅

硅(Si)

硅具有蓝灰色外观。它的峰值传输范围为 3 - 5 µm,总传输范围为 1.2 - 8 µm。由于导热率高、密度低,适用于激光镜和滤光片。表面抛光的大块硅也被用作物理实验中的中子靶。 Si是一种低成本且轻质的材料,它的密度比Ge或ZnSe低,并且与光学玻璃的密度相似,因此它可以在一些需要考虑重量的情况下使用。建议大多数应用采用增透膜。硅是通过提拉技术 (CZ) 生长的,含有一些氧,会在 9 µm 处产生强吸收带,因此不适合与 CO 一起使用2激光传输应用。为了避免这种情况,可以通过浮区(FZ)工艺来制备硅。

材料特性

折射率

3.423 @ 4.58 微米

阿贝数 (Vd)

未定义

热膨胀系数 (CTE)

2.6×10-6/ 20℃时

密度

2.33克/厘米3

传输区域及应用

最佳传输范围 理想的应用
1.2 - 8 微米
提供 3 - 5 μm 增透膜
红外光谱、MWIR 激光系统、MWIR 检测系统、太赫兹成像
广泛应用于生物医学、安全和军事应用

图形

右图为10毫米厚、无涂层硅基板的透射曲线

硅-(Si)

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